湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
采用不同成分的放电气体，可以在金属表面渗入不同的元素。在放电开始前间隙中必须存在大量的种子电子，而长寿命的亚稳态及其彭宁电离可以提供这些种子电子。和普通化学热处理相同，根据渗入元素的不同，有离子渗碳、离子渗氮、离子碳氮共渗、离子渗硼、离子渗金属等等。其中离子渗氮已在生产中广泛地应用。低压气体中显示辉光的气体放电(空气中的电子大概在1000对/cm3，由于高压放电现象在低气压状态下会产生辉光现象）现象。
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两种靶电源不同之处：选用(工艺型)双极矩形波或正弦波中频靶电源，因其输出的电压和电流的占空比可以大范围连续调节，镀膜时电源的工艺参数适应范围比“经济型”中频靶电源要宽很多；适用于需要经常变化的磁控溅射镀膜工艺和不同材质的膜层。??一般来说，射频辉光放电与直流及中频交流脉冲辉光放电相比，可以在低一个数量级的气体压强状态下进行(例如，1。 (经济型)双极性矩形波或正弦波中频靶电源的输出电压或电流的工艺调节范围偏窄，若相关参数选配合适，一般可用于磁控溅射镀膜工艺相对固定和单一的工业生产中，其优点是靶电源价格可以相对便宜。
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选用正弦波中频靶电源，由于波形的原因，靶面产生打弧的几率更低并优于双极性矩形波中频靶电源。APGD的研究方兴未艾，已经受到国内外许多大学和研究机构的广泛重视。更适合于对薄膜表面和膜层质量要求较高的溅射工艺。 一般来说，射频辉光放电与直流及中频交流脉冲辉光放电相比，可以在低一个数量级的气体压强状态下进行(例如，1.0×1-2Pa)。
以上信息由专业从事丰派离子氮化的丰热科技于2021/4/19 11:16:27发布
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