四氟化碳物理性质 :
熔点-183.6℃，
分子式是CF4,
沸点-128.1℃，
液体密度(-130℃)1.613g/cm3，
液体折光率(-173℃)1.515，
固体转变点72.2K，
临界温度-45.67℃，
临界压力3.73MPa，
蒸气压（-150.7℃）13.33kPa
介电常数（25℃，0.5MPa）1.0006
临界密度：7.1dm3/mol
标准摩尔自由能：-929.84 kJ/mol
标准摩尔生成自由能：-887.41 kJ/mol
危险性类别：第2.2类不燃气体
因为四氟化碳和四氟化圭都是共价化合物，然而碳氟键的键能远远大于硅氟键的键能，键长也是前者短得多，所以四氟化碳的热稳定性更好。相对分子量88.00。在常温下，四氟化碳是无色、无臭、不燃的易压缩性气体，挥发性较高，是稳定的有机化合物之一，不易溶于水。四氟化碳亦称全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳，为非腐蚀性气体，所有通用材料如钢、不锈钢、铜、青铜，铝等金属材料都可以使用。
以活性炭与氟为原料经氟化反应制备。在装有活性炭的反应炉中，缓缓通入高浓氟气，并通过加热器加热、供氟速率和反应炉冷却控制反应温度。四氟化碳，又称为四氟甲1烷、Freon-14及R 14，是一种卤代烃(化学式:CF4)。它既可以被视为一种卤代烃、卤代甲1烷、全氟化碳，也可以被视为一种无机化合物。它在大气中的寿命约为50,000年，全球增温(全球暖化)系数是6,500(二氧化碳的系数是1)。虽然结构与氟氯烃相似，但四氟化碳不会破坏臭氧层。
它在大气中的寿命约为50,000年，全球增温(全球暖化)系数是6,500(二氧化碳的系数是1)。虽然结构与氟氯烃相似，但四氟化碳不会破坏臭氧层。四氟化碳是目前微电子工业中用量大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻。预先称取5~10g的碳化硅粉末和0.1g的单质硅粉，置于镍盘中，使硅和碳化硅充分接触后，将镍盘放入蒙乃尔合金反应管中，向反应管内通入氟气，氟气先和单质硅反应。
以上信息由专业从事高浓度四氟化碳的安徽谱纯于2024/4/21 9:50:45发布
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